2018 年 12 月 12日 星期三
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MOCVD150LE 金属有机化学气相沉积系统
日期:2017-01-23 | | 【

生产厂家:美国科特莱思科
购置时间:2015年
原    值:103万元
主要指标:本底真空小于5×10-5 Torr;载气系统:N2或者Ar;沉积非均匀性:<1%
用    途:用于光学薄膜、电学薄膜、太阳能光电光热薄膜、摩擦学薄膜、界面力学薄膜材料的制备
样品要求:基片尺寸50-200mm
联系电话:0931-4968117