2018 年 12 月 12日 星期三
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PECVD
日期:2011-09-23 | | 【

生产厂家:中科院兰州化物所和北京镨玛泰克真空科技有限公司联合研制
购置日期:2011年
原   值:87万元
主要指标:离子注入电压:≤ 20 kV    离子注入电流:≤ 100 mA
      气相沉积电压:≤ 2 kV    脉冲频率:≤5KHz
      真空度:<1×10-3 Pa
用  途:等离子体浸没离子注入和直流脉冲等离子体化学气相沉积高速沉积各种碳膜
样品要求:固体
联系电话:0931-4968117