JGP450a型磁控溅射沉积系统

日期：2010-08-03 | | 【大中小】

生产厂家：中科院沈阳科仪
购置日期：2008年
原　　值：30万元
主要指标：真空系统：极限真空为6.67×10^-5Pa，漏放：5 Pa/12h；
用　　途：用于普通溅射沉积和高真空摩擦试验
样品要求：各种质地平板固体材料
联系电话：0931-4968236

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